生产年份: 2011

脉冲激光沉积系统，英文全称pulsed laser deposition system，简称PLD，由激光发射腔及控制系统组成，辅助有Ar粒子轰击和RHEED设备，可进行同腔室多靶位、不同气压、不同气氛溅射沉积，同时可进行高真空原位退火，在沉积前和沉积的过程中可通过Ar粒子轰击处理衬底和感生出具有织构的薄膜，通过RHEED可进行不同阶段的薄膜生长状况研究。所属品牌为美国Neocera。